光谱仪用高纯氩气纯化设备

高纯氩气纯化装置采用非蒸散型锆铝16吸气剂为净化剂，在一定的温度下，吸气剂可与氩气中的微量杂质O2、N2、H2、H2O、CO该还松某称起鲁吃、CO2、CH4来自等等形成稳定的化合物或固溶体，从而达到360百科对氩气精制的目的，本装置净化器采用特殊结构，具有接触面积大，阻力小，净化效率高，热功损耗小等优点。

• 中文名称 光谱仪用高纯氩气纯化设备
• 类别 仪器设备

设备介绍

　　高纯氩气纯化装置采用非蒸散型锆铝16吸气剂为净化剂，在一定的温度下，吸气剂可与氩气中的微量杂质O2、N2、H2、H2O、CO、CO2、CH4等等形成稳定的化合物或固溶体，从而达到对氩气精制的目的，本更四装置净化器采用特殊结构，具有接触面积大，阻力小，净化效率高，热功损耗小等优点。本装置可与区熔硅单晶炉配套使用可用于激光器、溅射、半导体生产，气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要加及齐用高纯氩气的生产技术领域。

技术保障措施

　　1 组合式纯化工艺，分级处理。

　　2 净化器采用特殊结构和装料方法，流速设计合理，气流分布均匀。

　　3 净化炉采用特殊设计的加热构造，加热均匀、稳定。

　　4 采用优质管件，阀门，避免管道和阀门影响气体质量。

　　5 采用优质的电器元件和控制严工拿仪表，保证温度稳定，减少温度和影响。

　　6 净化器的活化程序，严格按照活化程序执行，根据现场实际情况适当岩艺终名系调整。

　　7 对用户的操作员进行设备操作培训，了解设备工作原理

　　掌握设备操作方法，熟悉设备的开车、停车、停电、停水处理方法。

　　8 对用户设备建立档案，及时提醒用户对设备进行例行检和维护。是设备处在最佳工作状态。

　　主要技术指标:原料氩纯度要求:杂质要求:

　　杂质

　　N2

　　来自O2

　　CO2

　　CH4

　　露点

　因清积径则吃　含量ppm

　　<100

　　≤15

　　<5

　　<5

　　-50℃